单选题
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试题题干

中国电科二所生产大楼内,100台中国电科二所自主研发和生产的碳化硅(SiC)单晶生长设备高速运行,Sic单晶在这些设备里生长。作为一种第三代半导体材料,SiC单晶以其特有的高临界击穿场强、高电子迁移率、高热导率等特性,成为制作高温、高频、大功率、光电集成器件的理想材料,是新一代雷达、卫星通讯、通讯基站等重要领域的核心材料,应用前景广阔。据了解,高纯SiC粉料是SiC单晶生长的关键原材料,单晶生长炉是SiC单晶生长的核心设备,高质量的SiC单晶除需高纯SiC粉料和单晶生长炉,还需对生产工艺进行设计、调试和优化。
根据这段文字,关于SiC单晶说法正确的是:( )

A

具有高临界击穿场强等第三代半导体材料的共性

B

需高纯SiC粉料在单晶生长炉高温加热条件下生长

C

高质量SiC单晶对原料和生长环境及工艺均有要求

D

是我国自主研发和生产的物质且其应用前景广阔

参考答案

正确答案:

试题解析

A项:由“作为一种第三代半导体材料,SiC单晶以其特有的高临界击穿场强、高电子迁移率、高热导率等特性”可知,高临界击穿场强等并非第三代半导体材料的共性,而是SiC单晶的特性,偷换概念,排除。
B项:“高温加热条件下生长”无中生有,排除。
C项:由“高质量的SiC单晶除需高纯SiC粉料和单晶生长炉,还需对生产工艺进行设计、调试和优化”可知,该项表述正确,当选。
D项:由“100台中国电科二所自主研发和生产的碳化硅(SiC)单晶生长设备高速运行”可知,碳化硅(SiC)单晶生长设备为中国电科二所自主研发和生产,而并非SiC单晶这一物质,该项表述错误,排除。故正确答案为C。